Composite fotopolimerizable de baja viscosidad. Indicado para:Clases III, IV y V.Sellado de fosas y fisuras.Fondo cavitario en Clases I y II.Excelente consistencia y pulido.

Composite fotopolimerizable de baja viscosidad. Indicado para:Clases III, IV y VSellado de fosas y fisuras Fondo cavitario en Clases I y IIExcelente consistencia y pulido.

Composite fotopolimerizable de baja viscosidad. Indicado para:Clases III, IV y VSellado de fosas y fisuras Fondo cavitario en Clases I y IIExcelente consistencia y pulido.

Composite microhibrido para anteriores y posteriores fotopolimerizable. Tecnología de nanorelleno. Combina la resistencia de un híbrido y el pulido de un microfil. Poco sensible a la luz ambiental. Fácil de modelar y alto brillo.

Composite microhibrido para anteriores y posteriores fotopolimerizable. Tecnología de nanorelleno. Combina la resistencia de un híbrido y el pulido de un microfil. Poco sensible a la luz ambiental. 

Composite microhibrido para anteriores y posteriores fotopolimerizable. Tecnología de nanorelleno. Combina la resistencia de un híbrido y el pulido de un microfil. Poco sensible a la luz ambiental. 

Composite microhibrido para anteriores y posteriores fotopolimerizable. Tecnología de nanorelleno. Combina la resistencia de un híbrido y el pulido de un microfil. Poco sensible a la luz ambiental.